大国重器里说的是蚀刻机已经达到了7nm制程,并不是已经能够生产7nm的芯片。
《大国重器》里面提到的是蚀刻机(或者又叫刻蚀机),这种装置的制程中国已经量产了7nm制程级别的,而且已经被台积电采购、用于生产,所以那些喊着吹牛的人就可以去歇着了。同时,5nm制程的蚀刻机也在研发之中,听说进展相当顺利。
↑大国重器中的中国蚀刻机(片中用的是刻蚀机)↑
制造芯片还需要光刻机。
但是,芯片的制造远远不是只有一个蚀刻机就行的,因为芯片还有一个更为关键的过程:光刻,因此需要使用叫做“光刻机”的装置。
一般来讲,制造一块集成电路芯片需要上百道工序,可以概括为前道工艺和后道工艺。前道工艺以单晶硅片的加工为起点。以在单晶硅片上制成各种集成电路元件为终点;后道工艺即封装测试环节,以最终制成集成电路产品为终点。在前道和后道工艺中,需要用到大量的制造加工设备,这些设备的制造需要综合 运用光学、物理、化学等科学技术,具有科技含量高,制造难度大,设备价值高等特点。根据工艺流程,集成电路制造环节所需要的设备其中就包括了光刻机和刻蚀机。“光刻”意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。根据光刻机的用途可分为前道光刻机和后道光刻机(即封装光刻机)。我们日常使用手机的CPU制造工艺都离不开光刻机。通常提到的光刻机大多指用于制造芯片的前道光刻机。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。刻蚀相对光刻要容易,制作芯片时,光刻机是激光将掩膜版上的电路临时复制到硅晶圆片上,刻蚀机是按光刻机在硅片上刻好的电路结构,在硅片上进行微观雕刻,以刻出沟槽或者接触空。
央视《大国重器》第二季中提到的是中微半导体7nm刻蚀机,这里7NM不是芯片而是设备工艺,是指制作芯片所需的蚀刻机工艺达到了7NM。中微半导体研发的7nm刻蚀机已经投入市场,目前台积电等芯片制造厂商都在使用。事实上我国目前蚀刻机的工艺已经达到世界先进水平。今年底中微或将量产目前世界最先进的5nm等离子刻蚀机。但要制作国产高端芯片还需要国产高端光刻机。相比刻蚀机,国内光刻机工艺则远远落后于世界先进水平。在已量产的国产光刻机中性能最好的是90nm光刻机,不客气地说这属于低端光刻机。至于国内晶圆厂所需的高端光刻机则完全依赖进口。国产高端芯片什么时候能上市就得看国产高端光刻机的研发速度啦。
《大国重器》是一部不错的纪录片,第二季也是干货满满,我国不管是空天,基建,海洋,通信还是智造近年来都取得了不错的成就,不过也不得不承认,很多地方与世界一流水平还是有差距的。
7nm的刻蚀机 不代表可以生产7nm芯片
中微作为一家半导体公司,代表了我国在半导体的最高成就,已经成功研制出了7nm刻蚀机,达到世界一流水平,并且成功打入台积电,台积电的刻蚀机主要有五大供应商,分别是应用材料,科林研发,东京威力科创,日立先端和中微,中维是唯一一家本国企业。
能生产7nm刻蚀机,不代表可以生产7nm级别芯片,还有一项关键技术光刻机,高端的光刻机我们基本属于空白,光刻机是将掩膜版上的电路复制到硅圆晶片上面,刻蚀机则是在晶片上雕刻,目前能生产7nm芯片的只有台湾的台积电和韩国三星,国内只有中芯科技能够制28nm级别芯片(14nm还没有量产),这个差距不是一点点的,所以还得加油。
芯片非一朝一夕 有火种就有希望
目前国内芯片还处于起步阶段,江丰的靶标,中微的刻蚀机,汉微科的e–beam等等都是很好的例子,这些企业就像是或者,虽然现在火光很小,但是星星之火可以燎原,只要把握机会,抓住机遇,早晚可以烧到全世界。
芯片不仅仅是一个公司或者几个公司的事情,他与航天,通信等等一样,是一个国家一个民族的命脉,所以请耐心的支持他们。
现在所有的制造都离不开电脑控制,而其最基础的就是芯片,芯片及操作系统都是美国人发明的,就是说国内现在有研究芯片,它其实都是基于美国的底层技术去做的。这些底层技术都是有专利的,就是像谷歌的开源操作系统,也会有一些限制。
所以说起汉语为基础,从目前来看,根本研发不出有完全自主知识产权的芯片。因为芯片涉及非常强大的物理,计算机的知识,还需要有强大的精密机床制造技术。
这也是为什么使用同样的材料,为什么中国国内造不出同发达国家相同品质的产品。
正如郭台铭讲,工艺达到99%是有可能的,但也达到99.8%,99.9,99.999可能需要几十年的时间去打磨。
有人评论说,大概再有100年,都不会有中国的芯片出现。因为世界范围内目前为止只有美国才能独立制造出完全自主芯片。
心累,都纳米级了,100如何1又如何,大不了我们回到10年前,暂时用100纳米的,不就电脑手机重个几百克,相比30年前总是进步大大的,支持下国产,我们13亿人口难道还撑不起一个自己的标准,自己的应用平台,找那么多借口干嘛,心累,苹果再好用,国难当前,什么舍弃不了,大不了用回pb机又如何,民族尊严国之命脉,除了少部分的精英积攒了多少美国资产舍不得,犹犹豫豫,对我等小民而言,没车开可以自行车,没电脑重新看有线电视,没手机我们可以重新围坐一起,比起抱着手机大家是不是更亲热了
这个是刻蚀技术与光刻技术不同
中国现在光刻能做到22纳米,成品率不高,与西方先进企业差距很大,西方光刻达到7纳米成品,成品率很高。中国现在挑战14纳米技术。
希望国家加速战略布局,没有什么中国做不出来的。
7纳米的是蚀刻机,是芯片生产线上的一个设备的突破,预计我们今年还会突破5纳米的蚀刻机。我们光刻机还没突破,乐观的估计2030年我国能够实现10纳米以下的光刻机。生产7纳米的芯片如果用ASML的光刻机应该能够早于2030年。综合网络信息给出的个人观点,对准确性不做保证。
不要催牛,任何催牛都是不切实际的。好比华为海思970的7纳米还是台积电代工。当年的龙芯催破天。可是买电脑没一款cpu,全是美国的。
大规模上市,你要有很多设备可是你有么。感觉我们最多能建一套房子里面的东西都要买。别人卡你也一样。和电脑差不多,就会一个外壳。不要去绕弯路了,台积电的技术去弄过来吧。
这里讲的是刻蚀机已经达到7nm的水平,但是芯片制作的核心还需要光刻机,目前,国家能自主掌握的最高精度的光刻机好像是90+nm,也有的说是190+nm。目前,光科技全球最好的是荷兰的AMSL(好像是这个名字),他们是不向中国出售最高端的光刻机的,况且每年量产的不多还都被美国及众走狗买去了,所以咱们国家在光刻机这块还是需要加把劲的,不过在具有全能体制优势下的中国,任何困难都不能称之为困难!
[cp]中美战争早已打响!仅仅把目前的斗争视为贸易战经济战外交战政治战科技战,显然是极端错误的判断!这只是军事战的序幕,至少和当年苏美斗争的性质是一样的,最后演化为军事摊牌并非危言耸听,因此,中国必须防患于未然,作好充分准备,一旦开战,便应有鱼死网破的决心和实力。 [/cp]