看準台积电大幅採用 EUV，科磊推电子束图案化晶圆缺陷检测

就在晶圆代工龙头台积电已经进入 5 奈米製程量产，并且大量採用极紫外光刻设备（EUV）的情况下，美商半导体设备商科磊（KLA）于 21 日宣布，推出革命性的 eSL10 电子束图案化晶圆缺陷检测系统。透过该项新的检测系统，可以发现相关光学或其他电子束缺陷检测系统无法稳定侦测的缺陷，藉此以加快高性能逻辑和记忆体晶片，其中包括那些依赖于极紫外光刻（EUV） 技术的晶片的上市时间。