满足台积电三星先进製程，ASML 支援 3 奈米光刻机估 2021 年问世

晶圆代工龙头台积电于 2020 年正式量产 5 奈米製程，竞争对手三星也随后追赶当下，更先进的 3 奈米製程目前两家公司也都在积极研发。这些先进半导体製程能研发成功，且让未来生产良率保持一定水準之外，光刻机绝对是关键。就台积电与三星来说，最新极紫外光刻机（EUV）早就使用在 7 奈米製程，未来 5 奈米製程也会继续沿用。更新的 3 奈米製程，目前光刻机龙头──荷兰商艾司摩尔（ASML）也正研发新一代极紫外光刻机，以因应市场需求。