针对 2019 年 12 月 31 日南韩三星电子于华城厂区所发生的跳电事件,整体影响到 DRAM、NAND Flash 及 LSI 方面採用 EUV 技术来生产系统半导体的部分,分析机构指出,在跳电时间较短的情况下,虽然影响缩小到可控制的範围内。但是,其真正的损失数字仍有待三星在进行完产线检查后进一步公布。不过,相关的市场影响已开始发酵,2 日台股早盘,相关记忆体族群都已有股价表现。
针对 2019 年 12 月 31 日南韩三星电子于华城厂区所发生的跳电事件,整体影响到 DRAM、NAND Flash 及 LSI 方面採用 EUV 技术来生产系统半导体的部分,分析机构指出,在跳电时间较短的情况下,虽然影响缩小到可控制的範围内。但是,其真正的损失数字仍有待三星在进行完产线检查后进一步公布。不过,相关的市场影响已开始发酵,2 日台股早盘,相关记忆体族群都已有股价表现。