艾司摩尔 EUV 设备生产不顺，原因是卡尔蔡司镜头供应不足

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目前半导体製程已微缩到 10 奈米以下，大家都寄望藉由极紫外光微影设备（EUV）协助製程向前发展，也使摩尔定律（Moore’s Law）再往下延伸。不过就目前生产 EUV 设备的艾司摩尔（ASML）来说，因为製造难度，已积压了大量订单在手上。有国外媒体指出，艾司摩尔 EUV 设备生产不顺的主因，就是来自光学镜头供应商蔡司（Carl Zeiss）供货进度跟不上需求所致。

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