本篇文章将带你了解 :抢攻先进半导体製程商机,科磊宣布推出 5 种显影控制系统
为争取新世代先进半导体製程商机,半导体检测大厂美商科磊(KLA-Tencor)公司于 12 日宣布,针对 7 奈米以下的逻辑和记忆体设计节点,推出 5 款显影成型控制系统,帮助晶片製造商实现多重曝光技术和极紫外线(EUV)微影所需的严格製程公差。
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为争取新世代先进半导体製程商机,半导体检测大厂美商科磊(KLA-Tencor)公司于 12 日宣布,针对 7 奈米以下的逻辑和记忆体设计节点,推出 5 款显影成型控制系统,帮助晶片製造商实现多重曝光技术和极紫外线(EUV)微影所需的严格製程公差。
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