迎接 2 奈米时代，imec 推首款开放式 2 奈米设计套件

日前 2024 年 IEEE 国际固态电路会议（ISSCC），比利时微电子研究中心（imec）推出开放式製程设计套件（PDK），由 EUROPRACTICE 平台提供的共训练程式，透过 imec 开发 2 奈米虚拟数位设计，包含晶背供电网路。

imec 套件将加装于 EDA 工具套件，如益华电脑（Cadence Design Systems）和新思科技（Synopsys）产品，为设计路径探寻（pathfinding）、系统研究及训练提供获取先进製程的广泛途径，供产学界训练半导体人才工具，也会协助产业利用有意义设计路径探寻（pathfinding），将产品过渡到新科技。

目前晶圆厂製程设计套件（PDK）能开放晶片设计人员使用一套经测试与检验的元件库，以满足功能性及可靠性设计，但通常技术达到一定生产能力时，才会给生态系统使用。限制开放和保密协定（NDA）使技术导入门槛提高，产学界难研发阶段取得先进製程技术。

Imec 逻辑晶片副总裁 Julien Ryckaert 表示，如果想吸引新晶片设计人员，必须提前开放基础设施，以培养先进製程设计能力，训练课程也将协助设计人员尽快掌握最新技术，并了解技术破坏（technology disruption），如奈米片元件和晶背技术。此设计路径探寻（pathfinding）製程设计套件（PDK）也将协助企业转换到未来节点设计，并帮助防範产品面临微缩瓶颈。

Imec 强调，此套件包含用于数位设计的必备基础设施，以一套数位标準单元库和静态随机存取记忆体（SRAM）IP 巨集为基础。未来，这款製程设计套件（PDK）平台将扩展到更先进的技术节点，例如 1.4 奈米（A14）。随附的训练程式也将于第二季初期展开，除了教授订阅者 2 奈米技术的特性，还能提供利用益华电脑（Cadence）和新思科技（Synopsys）的 EDA 软体来操作数位设计平台的实作训练。

新思科技的技术策略及策略伙伴副总裁王秉达表示，培训一批工程专业人才对半导体产业来说很重要，这些人员必须具备开发颠覆性产品所需的技术。 而 imec 推出的製程设计套件（PDK）是体现业界合作成功扩大开放先进製程技术的绝佳典範，这一代及新一代的设计人员可以藉此加速促进半导体创新。与 imec 合作，为这套 2 奈米製程设计套件来建立一套经过认证且由 AI 驱动的 EDA 数位设计流程，这能让设计团队进行原型设计，并利用一套基于製程设计套件的虚拟设计环境来加速转换至新一代技术。

益华电脑（Cadence）学术网路计画 (Academic Network) 副总裁 Yoon Kim 表示，Cadence 致力于与大学和研究机构合作，以驱动创新和辅助开发奈米电子及微电子产业的专业人员。Cadence 与 imec 在多项计画上已经建立了多年的成功合作，而 imec 新推出的製程设计套件象徵了为训练新一代半导体设计人员的一个新的重大里程碑。Imec 运用了Cadence 所开发的业界领先 AI 驱动数位及客製化／类比完整流程内的所有工具，以完成这款製程设计套件的创建及验证，确保产学界伙伴能够获取支援最先进製程的 Cadence 完整流程，藉此他们也能无缝转换到最新一代的设计。

(首图来源：Flickr/IBM Research CC BY 2.0)