辉达、台积电、新思携手，加速晶片製造

辉达（Nvidia Corp.）在 2024 年"GPU Technology Conference"（又称 GTC 大会）宣布，台积电、电子设计自动化（EDA）软体商新思科技（Synopsys）已开始在各自的製程、软体及系统中使用"cuLitho"软体资料库来加快运算式微影（computational lithography），协助晶片商运用高数值孔径（High-NA）极紫外光（EUV）微影设备等先进晶片製造工具，在转入2奈米以下电晶体时突破限制。

Tom’s Hardware、Investing.com等外电报导，辉达执行长黄仁勋（Jensen Huang）18日透过新闻稿表示，运算式微影乃晶片製造的基石。台积电、Synopsys採纳cuLitho来加快晶片製造速度后，未来将支援辉达最新世代的Blackwell架构GPU。

举例来说，运算式微影是运算负载最高的半导体製程，若使用CPU、每年得耗费数十亿小时。光是典型的晶片光罩组（为生产製程的关键步骤），就需要3,000万小时或更多的CPU运算时间，因此晶圆厂内都需要设置大型资料中心。

透过加速计算，如今只要内建350颗辉达H100的系统，就能取代内建4万颗CPU的系统，能加速生产时间，同时降低成本、节省空间和能源。

辉达18日在正常盘上涨0.7%、收884.55美元；盘后下挫1.76%至869美元。台积电ADR在正常盘上涨0.16%、收136.64美元；盘后下跌0.25%至136.30美元。Synopsys在正常盘上涨1.93%、收560.63美元；盘后续涨2.52%至574.74美元。